16.2 HV擺動(dòng)隔離閥兼具可靠的隔離性能與低顆粒計(jì)數(shù)及低顆?；罨匦浴Ｆ渥拷^的顆粒性能得益于平滑的啟閉動(dòng)作。

該閥門特別適用于蒸發(fā)器和濺射等惡劣工藝環(huán)境中的隔離需求。16.2閥提供三位置氣動(dòng)單作用帶閉合彈簧或標(biāo)準(zhǔn)氣動(dòng)單作用帶閉合彈簧兩種配置。

其特殊分體式閥體設(shè)計(jì)無需拆卸管道連接或工藝腔連接即可維護(hù)。纖薄結(jié)構(gòu)可直接安裝于工藝腔體，省去傳統(tǒng)腔體-閥門-泵連接所需的額外容積。

憑借堅(jiān)固設(shè)計(jì)與多樣化配置選項(xiàng)，16.2系列可輕松集成于各類真空工藝流程。

該系列已在全球數(shù)百套批量及在線生產(chǎn)系統(tǒng)中投入使用，經(jīng)受各種工藝條件考驗(yàn)，其卓絕性能在各方面均得到充分驗(yàn)證。

16.2 HV擺動(dòng)隔離閥提供鋁制版本，閥體經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化或鍍鎳處理，配備符合ISO-F、ASA-LP和JIS標(biāo)準(zhǔn)的法蘭連接件?？杉煽蛻舳ㄖ品ㄌm。其他選項(xiàng)包括粗排（旁通）口、排氣口或儀表接口、加熱解決方案，以及帶硼硅酸鹽玻璃或藍(lán)寶石玻璃視窗的閥板。

在惡劣工藝環(huán)境中實(shí)現(xiàn)可靠隔離

低沖擊運(yùn)行，低顆粒活化

工藝惰性——極低殘余脫氣量（RGA）

高運(yùn)行時(shí)間

低運(yùn)行成本

可根據(jù)工藝要求調(diào)整

半導(dǎo)體制造

蒸發(fā)與濺射設(shè)備：在真空鍍膜工藝中，16.2閥門隔離不同工藝腔體，防止材料交叉污染，同時(shí)低顆粒特性保障鍍膜質(zhì)量。

晶圓傳輸系統(tǒng)：作為真空傳輸閥，其緊湊設(shè)計(jì)與高可靠性確保晶圓在真空環(huán)境中安全傳輸，減少生產(chǎn)中斷風(fēng)險(xiǎn)。

科研與高真空實(shí)驗(yàn)

同步加速器與粒子加速器：閥門需在惡劣真空條件下長期穩(wěn)定運(yùn)行，16.2系列的低放氣率與高密封性滿足實(shí)驗(yàn)需求。

表面分析設(shè)備：在X射線光電子能譜（XPS）等分析中，閥門隔離真空系統(tǒng)與外界，避免樣品污染，確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

工業(yè)真空工藝

真空滅菌設(shè)備：閥門準(zhǔn)確控制氣體流量，確保滅菌過程真空度穩(wěn)定，提升滅菌效率。